中国光刻机的新突破_俩分钟谈车

地产资讯新闻 / 来源:俩分钟谈车 发布日期:2020-09-21 热度:202C
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#中国光刻机的新突破# 一个好消息,国产22nm光刻机迎来突破

最近,美国禁止光刻机领域公司与中国合作,企图卡住中国芯片制造业,引起轩然大波。但也暴露出中国光刻机芯片制造领域的不足,在上个世纪光刻机快速发展阶段时,因为光刻机领域花费技术等一系列问题,使得中国并没有赶上队伍,导致差距被越拉越大。但最近一条好消息是中国国产22NM的光刻机迎来新突破,中国芯片迎来新篇章。

光刻机技术突破刻不容缓
很多人会问国产芯片何时能代替进口芯片,为什么我们造不出高端芯片?这一个是我国起步较晚,一个就是制造芯片的核心领域光刻机技术短板造成的。要知道芯片制造离不开光刻机,光刻技术也是我们必须要掌握的。要知道华为可以制作手机,制作电视等智能产品,这几年在CPU处理器上也有很大突破。
但是美国禁止海外光刻机公司和中国的合作,中国芯片制造业就瞬间被人掐了脖子动弹不得。虽然中国突破22NM的光刻技术,但是相比国外光科技领域巨头ASML、台积电等7NM的光刻技术还是有一段距离的。

中国光刻领域的挑战与难题
此前,我国光刻机是90NM的光刻技术,和世界光刻领域差距非常大,根本不是一个量级,这次虽然我国突破22NM的光刻技术,可以说缩小之间差距,但我国依然面临诸多问题与挑战,首先光刻机技术开始于50年代美国,经过半个多世纪的发展,各个国家通力合作,领域学科之间相互交叉,难度可想而知。我国虽然在在上个世纪六十七十年代也开始摸索,但是始终落后于世界的脚步。

要想突破就要首先了解当下几个关键问题,首先是ASML等公司已经研制出了5NM的光刻机技术,据悉AMD、高通等公司已经开始了5NM的制程工艺向转变,而国产光刻机刚突破的22NM显然差距明显,根据报道说当前5NM技术相对之前提升约10倍,值得一提的是采用石墨烯芯片可以使得对光刻机工艺要求较低,但现实却是石墨烯芯片技术的突破并不比光刻机简单多少。
还有就是国产光刻机很多制造原材料如光源、透镜等依然依赖外部进口。虽然我们在华为海思的芯片走在世界前沿,但没有光刻机厂家与之代工,那我国的芯片就无法制造。

中国的突破
从2002年开始,上海微电子装备最好的90NM光刻技术,到突破22NM的振奋消息,背后是科研人员的默默付出。随着禁令台积电也将不再给我中国代工芯片,凡是涉及美国技术领域的都不可以和中国合作,这也包括了中芯国际等。
虽然现在困境很多,但我国一步也没有停歇,并且再一次突破和掌握了光刻机双工作台的核心技术,打破欧美光刻的技术垄断。

另外,在中科院长春光机所长达七年研发的“1.5米扫描干涉场曝光系统”也打破国外技术封锁,该技术战略意义重大,不仅可以应用于光刻机技术方面,还可以应用在可控核聚变,高能激光等多领域。
这些技术从无到有一点点的突破,代表中国的光刻领域突破不是一蹴而就的,是任重而道远的,但总有一天我国芯片制造业会拿出属于我们自己的骄傲答卷。

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